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G1 蒸鍍機
規格&簡(jiǎn)介K-200plus G1 OLED 蒸鍍機基板尺寸200x200mm glass or 8”waf···
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G2 蒸鍍機（研發(fā)中）
P-400 G2 IN-LINE 蒸鍍機基板尺寸300x400mm glass應用領(lǐng)域PMOLED、薄膜太陽(yáng)能電池、OTFT對位精度≦2···
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生產(chǎn)型磁控機
規格&簡(jiǎn)介 &···
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MPCVD系統
基底尺寸2”or 4”wafer應用領(lǐng)域金剛石外延片生長(cháng)微波源德國進(jìn)口微波源氣體純度7N生長(cháng)溫度800℃~1100℃等離子體溫度5000℃~6000℃腔體不銹鋼雙層腔體+水冷
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ALD薄膜沉積
基底尺寸2”、4”、6”wafer應用領(lǐng)域Al2O3， HfO2， ZrO2、 MoOx、 VOx、 TiO2， SiO2， Al···
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超高真空互聯(lián)
Sputter&PLD超高真空互聯(lián)極限真空度5x10-9torr四支2“圓形靶槍?zhuān)?“wafer基底準分子激光器+六靶臺
