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G1 蒸鍍機
規格&簡(jiǎn)介K-200plus G1 OLED 蒸鍍機基板尺寸200x200mm glass or 8”waf···
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G2 蒸鍍機（研發(fā)中）
P-400 G2 IN-LINE 蒸鍍機基板尺寸300x400mm glass應用領(lǐng)域PMOLED、薄膜太陽(yáng)能電池、OTFT對位精度≦2···
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VR 器件開(kāi)發(fā)機
基板尺寸8”wafer應用領(lǐng)域VR Micro-OLED 器件研發(fā)點(diǎn)源配置有機源13支，金屬源3支腔內布局分二區，金屬有機分離是否有LL有，磁力桿傳送
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Bottom-device實(shí)驗機
基板尺寸32x32玻璃基底（4片每次）應用領(lǐng)域底發(fā)射OLED&鈣鈦礦器件點(diǎn)源配置有機舟8支，金屬舟2支腔內布局單體機是否有LL否
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MT(材料驗證機）
基板尺寸100x100玻璃基底（tray盤(pán)）應用領(lǐng)域OLED器件研發(fā)&材料驗證點(diǎn)源配置有機源16支，金屬源3支腔內布局OC、MC分二腔，或者合并分四區是否有LL有，配進(jìn)口Robot
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Top-device研發(fā)機
基板尺寸50x50玻璃基底（8片每次）應用領(lǐng)域頂發(fā)射OLED器件研發(fā)點(diǎn)源配置有機源12支，金屬源2支腔內布局單體機（金屬&有機源分隔）是否有LL否
