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G1 蒸鍍機
規格&簡(jiǎn)介K-200plus G1 OLED 蒸鍍機基板尺寸200x200mm glass or 8”wafer應用領(lǐng)域AMOLED、Micro-OLED、OTFT對位精度≦1.5um by&nbs···
規格&簡(jiǎn)介
K-200plus G1 OLED 蒸鍍機 | |
基板尺寸 | 200x200mm glass or 8”wafer |
應用領(lǐng)域 | AMOLED、Micro-OLED、OTFT |
對位精度 | ≦1.5um by CCD Fine alignment |
速率范圍 | 0.01A/s~5A/s |
速率穩定性 | ≦±1% @LiQ & ≦±3%@Ag |
膜厚均勻性 | ≦±2% for organic deposition |
≦±3% for metal deposition | |
膜厚重復性 | ≦±1% for organic ≦±3% for metal |
極限真空度 | ≦3x10-7 torr within 16hrs |
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