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G2 蒸鍍機（研發(fā)中）
P-400 G2 IN-LINE 蒸鍍機基板尺寸300x400mm glass應用領(lǐng)域PMOLED、薄膜太陽(yáng)能電池、OTFT對位精度≦250um by Pin alignment速率范圍0.01A/s~10A/s速率穩定性≦±2%&nb···
P-400 G2 IN-LINE 蒸鍍機 | |
基板尺寸 | 300x400mm glass |
應用領(lǐng)域 | PMOLED、薄膜太陽(yáng)能電池、OTFT |
對位精度 | ≦250um by Pin alignment |
速率范圍 | 0.01A/s~10A/s |
速率穩定性 | ≦±2% @LiQ & ≦±3%@Ag |
膜厚均勻性 | ≦±2% for organic deposition |
≦±3% for metal deposition | |
膜厚重復性 | ≦±1% for organic ≦±3% for metal |
極限真空度 | ≦3x10-7 torr within 16hrs |
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